Mua bán Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6

Giới thiệu khái quát về Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6

Axit hexafluorozirconic (H2ZrF6), hay còn gọi là axit fluorozirconic. Là một hợp chất hóa học vô cơ mạnh, chứa zirconium và fluoride. Chất này thường tồn tại dưới dạng dung dịch và được sử dụng chủ yếu trong các quá trình công nghiệp và nghiên cứu khoa học. Axit hexafluorozirconic có tính ăn mòn mạnh và có thể tác dụng với kim loại, thủy tinh. Nó được ứng dụng trong sản xuất vật liệu chịu nhiệt, chất xúc tác trong các phản ứng hóa học và trong các nghiên cứu về hợp chất fluoride.

Thông tin sản phẩm

Tên sản phẩm: Fluorozirconic Acid

Tên gọi khác: Axit Hexafluorozirconic, xit fluorozirconic, axit zirconi hexafluoride, zirconium hexafluoride, zirconium fluoride, H2ZrF6, axit zirconi florua, hexafluorozirconic acid, zirconium hexa-fluoride, H2ZrF6 acid, zirconium hexafluoride acid.

Công thức hóa học: H2ZrF6

Số CAS: 12021-95-3

Xuất xứ: Trung Quốc.

Ngoại quan: Dạng chất lỏng không màu.

Hotline: 0961.951.396 – 0867.883.818

Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6 là gì?

Axit hexafluorozirconic (H2ZrF6), hay còn gọi là axit fluorozirconic. Là một hợp chất vô cơ chứa zirconium và fluoride. Hợp chất này có công thức hóa học là H2ZrF6. Trong đó ion zirconium (Zr) kết hợp với sáu ion fluoride (F-). Axit hexafluorozirconic thường tồn tại dưới dạng dung dịch trong nước hoặc các dung môi thích hợp khác.

Axit fluorozirconic có tính ăn mòn mạnh và có thể tác dụng với kim loại, thủy tinh và nhiều vật liệu khác. Nó là một axit mạnh, tương tự như các axit vô cơ khác. Và có khả năng tạo thành các muối zirconi khi phản ứng với các bazơ. H2ZrF6 được ứng dụng rộng rãi trong công nghiệp. Đặc biệt trong các quy trình sản xuất vật liệu chịu nhiệt, chất xúc tác trong các phản ứng hóa học, cũng như trong ngành công nghiệp chế tạo các hợp chất zirconi.

Ngoài ra, axit fluorozirconic còn được nghiên cứu trong các lĩnh vực khoa học như hóa học vật liệu và công nghệ xử lý nước. Do tính chất ăn mòn mạnh và độc hại của nó. Việc sử dụng axit này yêu cầu các biện pháp bảo vệ nghiêm ngặt để đảm bảo an toàn cho người sử dụng và môi trường.

2. Tính chất vật lý và hóa học của Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6

Tính chất vật lý

• Dạng tồn tại: Axit hexafluorozirconic thường tồn tại dưới dạng dung dịch trong nước. Hoặc có thể tồn tại dưới dạng muối rắn khi kết hợp với các chất khác.

• Màu sắc: Axit fluorozirconic là chất lỏng trong suốt hoặc muối rắn không màu.

• Mùi: Chất này có mùi đặc trưng của các hợp chất chứa fluoride, tuy không quá mạnh nhưng vẫn cần cẩn trọng khi tiếp xúc.

• Tính tan: Axit hexafluorozirconic dễ dàng hòa tan trong nước, tạo thành dung dịch axit mạnh. Nó cũng có thể hòa tan trong một số dung môi hữu cơ nhất định.

Tính chất hóa học

• Tính axit mạnh:

  • Axit fluorozirconic là một axit mạnh, có thể phân ly trong dung dịch nước để tạo ra ion H+ và ion ZrF6²-. Phản ứng này làm cho dung dịch trở thành axit mạnh và có tính ăn mòn cao.

  H2ZrF6→2H++ZrF62−​

• Phản ứng với bazơ:

  • Tương tự các axit mạnh khác, axit hexafluorozirconic có thể phản ứng với các bazơ để tạo ra các muối zirconi và nước. Ví dụ, khi phản ứng với natri hydroxide (NaOH), nó tạo ra muối natri hexafluorozirconate (Na2ZrF6) và nước.

  H2ZrF6+2NaOH→Na2ZrF6+2H2O

• Tính ăn mòn:

  • Axit hexafluorozirconic có tính ăn mòn mạnh, đặc biệt là đối với kim loại và thủy tinh. Khi tiếp xúc với kim loại, axit này có thể tạo thành các hợp chất zirconium-fluoride và ăn mòn bề mặt kim loại.

• Phản ứng với các muối khác:

  • Axit fluorozirconic có thể tham gia vào các phản ứng trao đổi ion với các muối khác để tạo ra các hợp chất zirconi khác. Điều này đặc biệt hữu ích trong sản xuất các hợp chất kim loại florua và trong các quy trình công nghiệp.

• Tính chất tạo phức:

  • H2ZrF6 có thể tạo ra các phức chất với các anion và các chất khác. Đặc biệt là trong các phản ứng với các ion kim loại khác. Điều này làm cho nó có ứng dụng trong nhiều lĩnh vực, như công nghệ vật liệu và hóa học hữu cơ.

3. Ứng dụng của Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6 do KDCCHEMICAL cung cấp

Ứng dụng

1. Chế tạo vật liệu siêu bền (Ceramic)

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic đóng vai trò quan trọng trong sản xuất các vật liệu gốm và ceramic. Đặc biệt là các vật liệu chịu nhiệt, có độ bền cơ học cao. Vật liệu ceramic này thường được sử dụng trong các ứng dụng đòi hỏi tính bền, chịu nhiệt cao. Ví dụ như trong ngành công nghiệp hàng không, chế tạo lò nung, hoặc các bộ phận máy móc chịu tác động nhiệt.

• Cơ chế hoạt động:
  Khi Axit hexafluorozirconic tham gia vào quá trình tổng hợp ceramic, các ion zirconium (Zr²⁺) và ion fluor (F⁻) từ H₂ZrF₆ sẽ tham gia vào phản ứng với các oxit kim loại khác. Quá trình này tạo thành các hợp chất zirconium oxide (ZrO₂). Có khả năng tạo thành cấu trúc mạng tinh thể bền vững. Lớp zirconium oxide này giúp tăng khả năng chịu nhiệt và làm tăng độ bền của vật liệu ceramic.

2. Sản xuất vật liệu chống ăn mòn (Coatings)

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng trong công nghiệp chế tạo các lớp phủ bảo vệ kim loại. Nhằm chống lại sự oxi hóa và ăn mòn do tác động của môi trường. Đây là ứng dụng quan trọng trong ngành hàng không, tàu biển, hoặc trong các môi trường công nghiệp khắc nghiệt. Các lớp phủ này giúp kéo dài tuổi thọ của các vật liệu kim loại.

• Cơ chế hoạt động:
  Axit hexafluorozirconic phản ứng với bề mặt kim loại. Tạo ra lớp zirconium oxide (ZrO₂) trên bề mặt. Lớp zirconium oxide này bền vững, có tính chống ăn mòn và chống oxi hóa rất tốt, bảo vệ kim loại khỏi tác động của các yếu tố môi trường như nước, oxy, và các hóa chất ăn mòn.

3. Sản xuất hợp chất fluorozirconium

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic là một nguồn cung cấp quan trọng cho việc tổng hợp các hợp chất fluorozirconium. Các hợp chất này thường được sử dụng trong các ứng dụng công nghiệp và nghiên cứu khoa học, chẳng hạn như trong sản xuất các hợp chất phức hợp, vật liệu điện tử, và trong ngành công nghiệp hạt nhân.

• Cơ chế hoạt động:
  Axit hexafluorozirconic phản ứng với các hợp chất kiềm hoặc trong các phản ứng trao đổi ion để giải phóng ion zirconium (Zr²⁺) và ion fluor (F⁻). Quá trình này tạo ra các hợp chất fluorozirconium, đặc biệt là ZrF₄, một hợp chất rất quan trọng trong các ứng dụng công nghiệp, như trong ngành điện tử và ngành công nghiệp hạt nhân.

4. Chế tạo màng mỏng (Thin Films)

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng để chế tạo các màng mỏng trong các thiết bị điện tử, đặc biệt là trong các ứng dụng quang học và điện tử. Các màng này có khả năng chịu nhiệt và chống ăn mòn cao, thường được sử dụng trong các ứng dụng quang học như kính lọc, lăng kính hoặc các thiết bị điện tử đòi hỏi tính ổn định cao.

• Cơ chế hoạt động:
  Trong quá trình chế tạo màng mỏng, các ion zirconium (Zr²⁺) từ H₂ZrF₆ sẽ được lắng đọng trên bề mặt của vật liệu trong môi trường thích hợp, tạo thành zirconium oxide (ZrO₂). Zirconium oxide có tính chất cách điện tốt, chống oxi hóa và có khả năng chịu nhiệt cao, là thành phần lý tưởng để tạo lớp màng mỏng trong các thiết bị điện tử.

5. Chất xúc tác trong các phản ứng hóa học

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng làm chất xúc tác trong các phản ứng hóa học, đặc biệt trong tổng hợp hữu cơ như các phản ứng alkyl hóa, acyl hóa, hoặc tổng hợp polymer. Chất xúc tác axit mạnh này giúp thúc đẩy các phản ứng với hiệu suất cao.

• Cơ chế hoạt động:
  Axit hexafluorozirconic hoạt động như một axit Lewis mạnh, tương tác với các phân tử khác, giúp tạo ra các trung gian phản ứng. Ví dụ, trong phản ứng alkyl hóa, H₂ZrF₆ sẽ giúp tạo ra các carbocation (ion carbon dương) từ các hợp chất hữu cơ, thúc đẩy phản ứng chuyển hóa thành sản phẩm mong muốn.

6. Điều chế chất tẩy rửa công nghiệp

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic có thể được sử dụng trong các chất tẩy rửa công nghiệp, giúp loại bỏ tạp chất kim loại, oxit và các bụi bẩn trên bề mặt vật liệu, đặc biệt là trong ngành điện tử và sản xuất linh kiện.

• Cơ chế hoạt động:
  Trong quá trình tẩy rửa, H₂ZrF₆ sẽ phản ứng với các tạp chất kim loại hoặc oxit trên bề mặt vật liệu, tạo ra các hợp chất zirconium dễ hòa tan trong dung môi tẩy rửa. Phản ứng này giúp làm sạch bề mặt vật liệu mà không làm tổn hại đến cấu trúc của vật liệu.

7. Ứng dụng trong ngành điện tử (Sản xuất linh kiện)

• Phân tích ứng dụng:
  Trong ngành điện tử, axit hexafluorozirconic giúp sản xuất các linh kiện điện tử như mạch in, các bộ phận bán dẫn, hoặc các vật liệu chịu nhiệt cho các thiết bị điện tử cao cấp.

• Cơ chế hoạt động:
  Ion zirconium từ H₂ZrF₆ tạo thành zirconium oxide (ZrO₂), có tính chất cách điện và chống ăn mòn. Các linh kiện điện tử được phủ zirconium oxide, giúp tăng độ bền, khả năng cách điện và bảo vệ linh kiện khỏi các tác động của môi trường như nhiệt độ cao, ẩm ướt hoặc các tác nhân oxi hóa.

8. Ứng dụng trong ngành quang học (Lăng kính, gương quang học)

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng trong ngành quang học để tạo ra các vật liệu quang học chất lượng cao như lăng kính, gương quang học hoặc các thiết bị quang học khác, nhờ vào khả năng chịu nhiệt và độ bền của zirconium oxide.

• Cơ chế hoạt động:
  Quá trình phản ứng của H₂ZrF₆ tạo ra zirconium oxide (ZrO₂), một chất liệu có tính chất quang học rất tốt, ổn định dưới nhiệt độ cao. Các vật liệu quang học phủ zirconium oxide có khả năng chịu nhiệt và chống mài mòn, giúp duy trì hiệu suất truyền sáng qua các thành phần quang học.

9. Điều chế hợp chất zirconium fluorides

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng để điều chế các hợp chất zirconium fluorides như ZrF₄, ứng dụng trong các ngành công nghiệp hóa chất, nghiên cứu khoa học, và công nghệ nano.

• Cơ chế hoạt động:
  Axit hexafluorozirconic cung cấp ion fluor (F⁻) và zirconium (Zr²⁺) trong môi trường kiềm hoặc qua phản ứng trao đổi ion, tạo ra các hợp chất zirconium fluorides (ZrF₄). Các hợp chất này được sử dụng trong sản xuất các vật liệu chịu nhiệt và trong các nghiên cứu về hóa học và vật liệu.

10. Sản xuất vật liệu phản ứng trong công nghiệp hạt nhân

• Phân tích ứng dụng:
  Axit hexafluorozirconic được sử dụng trong công nghiệp hạt nhân để sản xuất các vật liệu chịu nhiệt cao và ổn định trong môi trường ion hóa mạnh. Các vật liệu này được dùng trong các lò phản ứng hạt nhân hoặc các thiết bị liên quan đến công nghệ hạt nhân.

• Cơ chế hoạt động:
  Trong môi trường nhiệt độ cao và ion hóa mạnh, H₂ZrF₆ tạo ra zirconium oxide (ZrO₂), một vật liệu có khả năng chống chịu nhiệt và ion hóa. Zirconium oxide giúp tạo ra các vật liệu chịu nhiệt tốt cho các ứng dụng trong ngành công nghiệp hạt nhân, bảo vệ thiết bị khỏi các tác động khắc nghiệt trong môi trường phản ứng hạt nhân.

Tỷ lệ sử dụng %

1. Chế tạo vật liệu siêu bền (Ceramic) – 12%

• Giải thích:
  Axit Hexafluorozirconic (H₂ZrF₆) tham gia vào sản xuất ceramic, đặc biệt là các vật liệu gốm chịu nhiệt, thông qua việc cung cấp ion zirconium (Zr²⁺) cho quá trình tạo ra zirconium oxide (ZrO₂). Zirconium oxide có độ bền cơ học và khả năng chịu nhiệt cao. Tuy nhiên, trong quá trình chế tạo ceramic, ngoài H₂ZrF₆ còn sử dụng nhiều loại hợp chất khác để điều chỉnh tính chất vật liệu như độ cứng, độ bền, và khả năng chống mài mòn. Vì vậy, tỷ lệ sử dụng H₂ZrF₆ chỉ chiếm 12% trong tổng thành phần.

2. Sản xuất vật liệu chống ăn mòn (Coatings) – 10%

• Giải thích:
  Trong việc tạo lớp phủ bảo vệ chống ăn mòn, H₂ZrF₆ đóng vai trò quan trọng trong việc tạo ra lớp zirconium oxide (ZrO₂), giúp bảo vệ kim loại khỏi tác động của môi trường ăn mòn. Tuy nhiên, vì lớp phủ chống ăn mòn này còn có thể sử dụng nhiều hợp chất khác như crom hoặc các hợp chất titan, tỷ lệ sử dụng H₂ZrF₆ là 10%. Các lớp phủ này yêu cầu sự kết hợp giữa nhiều chất để tối ưu hiệu quả chống ăn mòn, vì vậy, mặc dù H₂ZrF₆ quan trọng, tỷ lệ sử dụng của nó không quá lớn.

3. Sản xuất hợp chất fluorozirconium – 15%

• Giải thích:
  Đây là một trong những ứng dụng chính của H₂ZrF₆, nơi chất này đóng vai trò quan trọng trong việc cung cấp ion zirconium (Zr²⁺) và ion fluor (F⁻) cho các phản ứng tổng hợp hợp chất fluorozirconium (ví dụ ZrF₄). Các hợp chất fluorozirconium này được sử dụng rộng rãi trong công nghiệp hóa chất, sản xuất linh kiện điện tử và các nghiên cứu khoa học. Vì H₂ZrF₆ là nguồn cung cấp chủ yếu cho quá trình này, tỷ lệ sử dụng trong ứng dụng này tương đối cao.

4. Chế tạo màng mỏng (Thin Films) – 8%

• Giải thích:
  Màng mỏng zirconium oxide được chế tạo từ H₂ZrF₆ đóng vai trò quan trọng trong các thiết bị điện tử và quang học, giúp tăng cường độ bền, khả năng chống ăn mòn và chịu nhiệt. Tuy nhiên, tỷ lệ sử dụng của H₂ZrF₆ không chiếm ưu thế tuyệt đối, vì các loại vật liệu khác (ví dụ như các hợp chất khác của zirconium hoặc các vật liệu cách điện khác) cũng được sử dụng để tạo màng mỏng, khiến tỷ lệ sử dụng của nó chỉ chiếm 8%.

5. Chất xúc tác trong các phản ứng hóa học – 7%

• Giải thích:
  H₂ZrF₆ là một axit Lewis mạnh, có thể được sử dụng làm chất xúc tác trong một số phản ứng hóa học, ví dụ như alkyl hóa hoặc acyl hóa. Tuy nhiên, vì có nhiều chất xúc tác khác có hiệu quả tương tự hoặc cao hơn (như axit sulfonic hoặc các hợp chất kim loại khác), tỷ lệ sử dụng của H₂ZrF₆ trong ứng dụng này chỉ chiếm 7%. Các ứng dụng xúc tác này phụ thuộc vào nhiều yếu tố khác nhau, bao gồm tính khả dụng và chi phí của chất xúc tác.

6. Điều chế chất tẩy rửa công nghiệp – 5%

• Giải thích:
  Trong công nghiệp tẩy rửa, H₂ZrF₆ có thể được sử dụng để tẩy rửa các tạp chất kim loại hoặc oxit khỏi bề mặt vật liệu. Tuy nhiên, vì H₂ZrF₆ không phải là thành phần chính trong các chất tẩy rửa (các loại axit như HCl hoặc H₂SO₄ thường được sử dụng phổ biến hơn), tỷ lệ sử dụng của nó trong ứng dụng này chỉ là 5%.

7. Ứng dụng trong ngành điện tử (Sản xuất linh kiện) – 12%

• Giải thích:
  H₂ZrF₆ được sử dụng trong ngành điện tử để tạo các vật liệu chịu nhiệt cho các linh kiện như mạch in, cảm biến, hoặc các bộ phận chịu nhiệt cao. Tuy nhiên, ngành điện tử sử dụng rất nhiều vật liệu khác nhau cho các linh kiện, ví dụ như silic hoặc kim loại quý, vì vậy tỷ lệ sử dụng H₂ZrF₆ là 12%.

8. Ứng dụng trong ngành quang học (Lăng kính, gương quang học) – 6%

• Giải thích:
  H₂ZrF₆ tạo ra zirconium oxide (ZrO₂), một vật liệu có đặc tính quang học tốt. Tuy nhiên, trong ngành quang học, các vật liệu khác như thủy tinh quang học, sapphire, hoặc các hợp chất quang học khác có thể được sử dụng thay thế. Vì vậy, tỷ lệ sử dụng H₂ZrF₆ trong lĩnh vực này chỉ chiếm 6%.

9. Điều chế hợp chất zirconium fluorides – 8%

• Giải thích:
  H₂ZrF₆ là nguồn cung cấp ion zirconium và fluor để sản xuất các hợp chất zirconium fluorides như ZrF₄. Tuy nhiên, việc sử dụng H₂ZrF₆ có thể được thay thế bằng các phương pháp khác, khiến tỷ lệ sử dụng trong ứng dụng này chỉ chiếm 8%.

10. Sản xuất vật liệu phản ứng trong công nghiệp hạt nhân – 17%

• Giải thích:
  Trong ngành công nghiệp hạt nhân, zirconium oxide (ZrO₂), được tạo ra từ H₂ZrF₆, rất quan trọng trong việc sản xuất vật liệu chịu nhiệt cao và bền vững, đặc biệt là trong các lò phản ứng hạt nhân. Đây là ứng dụng có nhu cầu sử dụng H₂ZrF₆ rất lớn, vì zirconium oxide là vật liệu không thể thay thế trong các thiết bị hạt nhân. Vì vậy, tỷ lệ sử dụng của H₂ZrF₆ trong công nghiệp hạt nhân chiếm đến 17%.

Ngoài Fluorozirconic Acid – Axit Hexafluorozirconic – H2ZrF6 thì bạn có thể tham khảo thêm các hóa chất dưới đây

• Axit Hydrofluoric – HF
• Axit Fluorosilicic – H₂SiF₆
• Axit Tetrafluoroboric – HBF₄
• Axit Perfluorooctanoic – C₈HF₁₃O₂
• Axit Zirconic – H₂ZrO₄
• Axit Sulfuric – H₂SO₄
• Axit Nitric – HNO₃
• Axit Acetic – CH₃COOH
• Axit Phosphoric – H₃PO₄
• Axit Chloric – HClO₃